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Newtek Gas präsentiert ein modernes PSA-System (Druckschwung-Adsorption) Sauerstofferzeugungssystem, das speziell für Halbleiterherstellungsumgebungen entwickelt wurde. Diese modulare Lösung liefert 99,5% ultrahohe Reinheitssauerstoff mit Fließraten von 5-3000 nm³/h mit intelligenten Integrationsfunktionen für Reinraumbetriebe.
Kerntechnische Vorteile
Dual-column 13X molecular sieve system achieves >99,999% O₂ Reinheit
± 0. 5% Konzentrationsstabilität durch Echtzeit-Lasergasanalyse
{Oder
- 30% niedrigerer Stromverbrauch als herkömmliche Systeme
- Das Wärmerückgewinnungssystem reduziert die Wärmebelastung in fabelhaften Umgebungen
- <65dB(A) noise level with acoustic enclosure option
Skalierbares Skid-montiertes Design unterstützt 20% -200% Kapazitätserweiterung
Luftkompressionseinheit (ölfreie Bildlauftechnologie)
Reinigungsturm (automatische TSA -Feuchtigkeitsentfernung)
Smart -Schlossschrank (SPS+HMI mit SECS/GEM -Protokoll)
Halbleiterprozessanwendungen
✔ Wärmeoxidation
Präzision O₂ Versorgung für Gateoxidwachstum (2-200 Å Dickekontrolle)
✔ trockenes Ätzen
Plasma-stabile Gasversorgung für die nanoskalige Strukturierung
✔ CVD -Kammerspur
Ultra-trockener Sauerstoff zur Prävention der Partikelverschmutzung
✔ Wafer Glühen
Hohe Purity-Atmosphärekontrolle für die Dotiermittelaktivierung
Smart Überwachungssystem
Überwachung von Echtzeit-Verunreinigungen (Erkennung von PPB-Ebene)
Vorhersagewartung mit AI -Algorithmus (98% Genauigkeit)
Remote -Diagnostik über IIOT -Plattform (OPC UA/Mtconnect)
Semi F 5-0202 Reinraum -Gasstandards
CE/UL/ETL Elektrische Sicherheitszertifizierung
ISO 14644-1 Klasse 3 Reinraumkompatibilität
Wir bieten
▲ Globales technisches Netzwerk:24/7 mehrsprachige Unterstützung mit<4hr response time
▲ Lebensdauer Optimierungsprogramm:Jährliche Effizienzprüfung und Molekularsiebersatz -Service (1- Jahr Garantie)
▲Benutzerdefinierte Lösungen:Gespenkelte Integration in AMHS/MMC -Systeme
und Gasrückgewinnungssystemdesign
Wenden Sie sich an unsere Halbleitergasexperten
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